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產(chǎn)品名稱:

Valco氦氣純化器(HP2)

產(chǎn)品型號: VICI 產(chǎn)品時間: 2024-12-21
Valco氦氣純化器(HP2):VICI氣體純化器用于提高載氣純度,以避免影響檢測器靈敏度或損壞毛細(xì)柱。Valco純化器(HP2)和氮氣純化器(NP2)采用穩(wěn)定的吸附性合金作為純化基質(zhì),能有效去除如H2O、H2、O2等雜質(zhì)。HP2適用于He、Ne、Ar等多種惰性氣體,而NP2針對N2氣體。兩者均可在高1000 psig的操作壓力下工作,并具備自動調(diào)控功能以保持純化效果

產(chǎn)品概述

Valco氦氣純化器(HP2):VICI氦氣和氮氣純化器用于提高載氣純度,以避免影響檢測器靈敏度或損壞毛細(xì)柱。Valco純化器(HP2)和氮氣純化器(NP2)采用穩(wěn)定的吸附性合金作為純化基質(zhì),能有效去除如H2O、H2、O2等雜質(zhì)。HP2適用于He、Ne、Ar等多種惰性氣體,而NP2針對N2氣體。兩者均可在高1000 psig的操作壓力下工作,并具備自動調(diào)控功能以保持純化效果

載氣的純化在靈敏度要求高的任何應(yīng)用中都是的,不純氣體會影響檢測器的靈敏度,甚至損壞毛細(xì)柱。Valco純化器(HP2)可以隨時提供氦氣及其它惰性氣體的純化氣體,例如可以將Ne、Ar、Kr和Xe中的ppm級以下的不純氣體純化。氮氣純化器(NP2)同樣地作用于氮氣。

Valco氣體純化器的純化基質(zhì)是一種無揮發(fā)性、有加熱活化的吸附性合金,此穩(wěn)定的合金包含在焊接組件中,所以可以安全簡單地使用。吸附劑粒子表面有一層氧化膜需通過加熱活化,活化過程必須在真空或惰性氣體環(huán)境下完成,這樣可允許氦氣在其間自由擴(kuò)散,防止氧氣鈍化層的形成。氦氣和氮氣純化器有一自動調(diào)控的特征設(shè)計,它保持吸附劑材料于最適溫度,消除了熱量流失的可能性

載氣的純化在靈敏度要求高的任何應(yīng)用中都是的,不純氣體會影響檢測器的靈敏度,甚至損壞毛細(xì)柱。Valco純化器(HP2)可以隨時提供氦氣及其它惰性氣體的純化氣體,例如可以將Ne、Ar、Kr和Xe中的ppm級以下的不純氣體純化。氮氣純化器(NP2)同樣地作用于氮氣。

Valco氣體純化器的純化基質(zhì)是一種無揮發(fā)性、有加熱活化的吸附性合金,此穩(wěn)定的合金包含在焊接組件中,所以可以安全簡單地使用。吸附劑粒子表面有一層氧化膜需通過加熱活化,活化過程必須在真空或惰性氣體環(huán)境下完成,這樣可允許氦氣在其間自由擴(kuò)散,防止氧氣鈍化層的形成。氦氣和氮氣純化器有一自動調(diào)控的特征設(shè)計,它保持吸附劑材料于最適溫度,消除了熱量流失的可能性

Valco氦氣純化器(HP2)

氦氣純化器

*   可純化氣體:He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn

*   高操作壓強(qiáng):1000 psig

*   可去除雜質(zhì):出口雜質(zhì)低于10ppb H2O、H2、O2、N2、NO、NH3、CO、CO2和CH4,此基于10ppm入口雜質(zhì)總量,其它去除雜質(zhì)包括CF4、CCl4、SiH4 和輕質(zhì)烴。

*   未被去除雜質(zhì):He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn


氮氣純化器

*   可純化氣體:只有N2

*   最高操作壓強(qiáng):1000 psig

*   可去除雜質(zhì):出口雜質(zhì)低于10ppb H2O、H2、O2、NO、NH3、CO、CO2和CH4,此基于10ppm入口雜質(zhì)總量,其它去除雜質(zhì)包括CF4、CCl4、SiH4 和輕質(zhì)烴。

*   未被去除雜質(zhì):He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn、N2


Valco氦氣純化器(HP2)






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